离子束蚀刻结构特性-离子源

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2019-11-20 1:11:58 * 浏览: 29

离子源使用考夫曼型离子源，其中磁体轴向分散磁场结构。圆柱形阳极直径为150毫米，阴极直径为0.4毫米，长度为130毫米，并缠绕成内径约为2毫米的单螺旋，线中和剂的直径为0.4毫米长度为70mm，多孔钼筛网和加速极开口区的直径为120mm，浇口间隙为1.5mm。为了便于组装，拆卸和清洁，离子源的整体结构是可拆卸的。阴极组件可单独拆卸，中和器安装在护罩的正面。气体供应管和导线是插入式结构。图10-39是离子源的示意图。考夫曼离子源的离子电流密度高达1 mA / cmsup2以上，束直径最大为350 mm，均匀度为5％，可变离子能量为2 keV。为此，当前的离子束蚀刻设备通常使用考夫曼型离子源。