真空镀膜：金属膜的CVD方法

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2019-10-22 11:30:29 * 浏览: 88

通过CVD法形成的金属膜几乎适用于手的所有金属，但是通常不必通过CVD法形成低熔点金属，并且可以通过蒸发获得高质量的膜。和离子镀。由CVD制成的金属膜仅用于生产具有高熔点和高硬度的膜，例如Ta，Mo，W或Re等金属膜。通过CVD，还可以产生细晶粒的纯净晶体，并且可以制造具有复杂形状的金属产品，例如钨坩埚，管件，喷嘴等。表10-21给出了涂覆难熔金属的CVD方法的反应式和温度。