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真空镀膜:金属膜的CVD方法

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2019-10-22 11:30:29 * 浏览: 11
通过CVD法形成的金属膜几乎适用于手的所有金属,但是通常不必通过CVD法形成低熔点金属,并且可以通过蒸发获得高质量的膜。和离子镀。由CVD制成的金属膜仅用于生产具有高熔点和高硬度的膜,例如Ta,Mo,W或Re等金属膜。通过CVD,还可以产生细晶粒的纯净晶体,并且可以制造具有复杂形状的金属产品,例如钨坩埚,管件,喷嘴等。表10-21给出了涂覆难熔金属的CVD方法的反应式和温度。