离子束刻蚀工艺：刻蚀速率
* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020-04-27 0:59:59 * 浏览: 146
加工质量和加工效率是束外蚀刻工艺的主要问题。刻蚀速率标志着加工效率，而加工质量与图形轮廓，刻蚀精度，均匀性，可重复性和表面损伤问题有关。它们不仅取决于蚀刻设备（尤其是离子源）的开发水平和掩模技术，还取决于工作参数的选择和样品材料的性质。蚀刻速率蚀刻速率表示为每单位时间的蚀刻深度，与蚀刻速率，到达表面的离子通量密度和材料的原子密度有关。蚀刻速率与溅射速率成比例。溅射速率与入射离子的类型，能量，入射角，靶的类型，晶格结构，表面状态，升华热，温度和残留气体的成分有关。通常用于离子束蚀刻的离子束能量为300eV至2000eV。增加入射离子的能量会增加蚀刻速度，但表面损伤也会增加。蚀刻速率与射束密度具有线性关系，这意味着射束密度和离子能量较低，并且溅射速率不会随射束密度而变化。如果束密度太高，则可能破坏表面的某些物理和化学状态，溅射工艺复杂，并且蚀刻速率偏离线性关系。蚀刻速率与靶中原子的密度成反比，即，在相同溅射速率下，靶密度越高，原子量越小，蚀刻速率越低。表10-38显示了当垂直转换成束电流密度为1mA /C㎡的氩离子束时，各种材料的蚀刻速率的实验值。表10-39显示了垂直于材料的离子的蚀刻速率。
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