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真空室矩形平面磁控溅射

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020-05-27 0:35:07 * 浏览: 7
矩形扁平目标的示意图如图10-12所示。目标表面处于正交电磁场中,并且磁场的方向与目标表面阴极平行,从而形成环形磁场。将高纯度氩气引入真空室,以使真空室保持在10-3 Pamdash和10-2 Pa的真空度。在阳极和阴极(靶)上施加一定的直流电压后,就会发生放电。放电产生的氩离子轰击阳极(靶),溅射靶沉积在基板上以形成薄膜。在靶表面上产生的二次电子在正交电磁场的作用下沿圆形磁场(跑道)被摆线化。一些电子的路径很长,这增加了与气体分子发生磁性碰撞的机会,并增加了气体电离的可能性。继而,增加了溅射速率。磁控管靶的磁场要求为:①形成封闭的圆形跑道(图10-12),②水平磁场强度必须达到2倍,10-2Tmdash,5倍,10-2T,并且可以在此范围内调节。矩形平面磁控管靶如图10-13所示,靶表面尺寸为120mm×240mm。永磁体(如锶铁氧体和铝镍钴)可以用作该靶材的磁体,也可以使用电磁体。这种结构靶的特点是使用了极靴,并且极靴与靶材直接接触。极靴上排列有六个锶铁氧体磁极,如图10-13所示。每个块都有长,宽,高的高度,分别为80mm,20mm和17mm(“高度是磁化方向”)。锶铁氧体的磁感应强度为10-1T的3.8倍,矫顽力为105A / m的2.1倍。根据该布置,当目标厚度为8mm时,目标表面的z *大水平场强度可以达到2.9倍,即10-2T。该矩形靶结构简单,通用性强,适用于大面积涂覆。