真空室矩形平面磁控溅射
* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020-05-27 0:35:07 * 浏览: 43
矩形扁平目标的示意图如图10-12所示。目标表面处于正交电磁场中，并且磁场的方向与目标表面阴极平行，从而形成环形磁场。将高纯度氩气引入真空室，以使真空室保持在10-3 Pamdash和10-2 Pa的真空度。在阳极和阴极（靶）上施加一定的直流电压后，就会发生放电。放电产生的氩离子轰击阳极（靶），溅射靶沉积在基板上以形成薄膜。在靶表面上产生的二次电子在正交电磁场的作用下沿圆形磁场（跑道）被摆线化。一些电子的路径很长，这增加了与气体分子发生磁性碰撞的机会，并增加了气体电离的可能性。继而，增加了溅射速率。磁控管靶的磁场要求为：①形成封闭的圆形跑道（图10-12），②水平磁场强度必须达到2倍，10-2Tmdash，5倍，10-2T，并且可以在此范围内调节。矩形平面磁控管靶如图10-13所示，靶表面尺寸为120mm×240mm。永磁体（如锶铁氧体和铝镍钴）可以用作该靶材的磁体，也可以使用电磁体。这种结构靶的特点是使用了极靴，并且极靴与靶材直接接触。极靴上排列有六个锶铁氧体磁极，如图10-13所示。每个块都有长，宽，高的高度，分别为80mm，20mm和17mm（“高度是磁化方向”）。锶铁氧体的磁感应强度为10-1T的3.8倍，矫顽力为105A / m的2.1倍。根据该布置，当目标厚度为8mm时，目标表面的z *大水平场强度可以达到2.9倍，即10-2T。该矩形靶结构简单，通用性强，适用于大面积涂覆。
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